EBL高压电源为精密电子束应用而设计,如半导体纳米光刻,微光学和开发掩模工作。它具有超低纹波和出色的稳定性规格,非常适合在这些要求苛刻的应用中使用。提供可选择的低输出电流和高输出电流范围。
固体封装的高压部分消除了任何用户维护问题,同时将组件与环境变量隔离开来。该装置完全过载,电弧和短路保护。提供远程控制编程和监视功能。允许对高压输出进行精确的被动测量。可选USB2.0,网口,RS-232,RS485数字化通讯,可根据用户要求定制。
典型应用:
微光学
半导体光刻
半导体曝光机
掩模
产品特点:
1.100kV半导体曝光机高压电源
2.低/高10μA/100μA输出电流选择
3.小于70mV的纹波
4.出色的调节和稳定性能
5.无油/固体封装设计
6.可选USB2.0,网口,RS-232,RS485数字化通讯
7.可根据用户要求定制