氧气气体净化器 M

落地式

本机采用 O2 处理，去除杂质，如 CH4、CO、CO2 和 H2O。 它们用于化学、光纤、核工业和实验室。 提供的出口杂质水平为 1 ppm。 其原理是催化 + 吸附。 进料气体在高温下通过一种非常特殊的催化剂，这样碳氢化合物，H2 和 CO 可以转化为二氧化碳和水，然后通过吸附层吸附。