氢气体净化器 D/DS

落地式

去除杂质：O2、H2O - 净化过程：催化（脱氧）+ 吸附 - 原理：气体通过特殊催化剂将 O2 转化为 H2O。 - H2O 被吸附在吸附剂层上。 - 主要用途：移动、天然气工业、玻璃工业、冶金工业、能源、半导体工业、焊接气体... 技术信息 - 压力：最高 380 barg - 出口杂质含量< 10 ppb - 半自动或自动版本（人机界面/PLC）