CVD(化学气相沉积)炉是用于 CVD 工艺的特殊炉子,这是一种通过气相中的化学反应生产涂层的技术,例如从 MTS(CH3SiCl3-甲基三氯硅烷气体)中生产涂层。
其设计目的是在加工材料的表面实现材料的可控沉积。
CVD 设备包含一个反应室,在此可控制工艺气体的温度、压力和化学成分等参数。
CVD 是一种通过气相中的化学反应在基材表面生产涂层的技术。
例如,化学沉积工艺(CVD)是一种用于生产保护涂层(工具钻孔)的技术。CVD 炉可在工具上形成保护层,提高工具的耐用性、强度和加工效率。在 CVD 过程中,化学反应可在工具表面沉积层,从而改善其性能。这些涂层具有更好的耐磨性、耐高温性和耐腐蚀性,从而延长了工具的使用寿命,提高了工业生产的效率。
---