室式炉

热处理石墨化真空

CVD（化学气相沉积）炉是用于 CVD 工艺的特殊炉子，这是一种通过气相中的化学反应生产涂层的技术，例如从 MTS（CH3SiCl3-甲基三氯硅烷气体）中生产涂层。 其设计目的是在加工材料的表面实现材料的可控沉积。 CVD 设备包含一个反应室，在此可控制工艺气体的温度、压力和化学成分等参数。 CVD 是一种通过气相中的化学反应在基材表面生产涂层的技术。 例如，化学沉积工艺（CVD）是一种用于生产保护涂层（工具钻孔）的技术。CVD 炉可在工具上形成保护层，提高工具的耐用性、强度和加工效率。在 CVD 过程中，化学反应可在工具表面沉积层，从而改善其性能。这些涂层具有更好的耐磨性、耐高温性和耐腐蚀性，从而延长了工具的使用寿命，提高了工业生产的效率。