坩埚容量 300 cm ³ 或 500 cm ³
大阀开口
精确、非常快速的通量控制
高纯度操作条件
易于操作和充填过程
集成水冷却罩
阀砷裂纹源专为高性能增长 III-V 材料。 它高度专业化 As4 或 As2 升华能力,结合了 300 cm ³ 或 500 cm ³ 的大型坩埚容量和精确、快速的通量控制。 集成阀门机构提供压力范围超过 2 个数量级的通量控制。 在压力读数中,典型的开/关比率约为 4 个数量级。
由于阀门开口大,因此可以有效地泵送砷储罐处于开阀位置。 阀单元可以手动操作,也可以使用阀门控制单元操作。 集成式水冷护罩以及电池和阀单元采用所选材料,保证了高纯度的运行条件。 通过集成裂解机单元的运行条件,源的运行模式可以很容易地从 As4 更改为 As2 增长。
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