离子束蒸发器 EFM-H

加工

光束孔径角： 15最大。 FWHM ： 15到6 (大约) 抽样距离的耳轮缘： 203 mm或更大 插入深度： 141.5 mm 与NGEFM或EVC系列控制器兼容 选择： 快门，气体入口，抽的旁路 有效水冷却 焦点产品 EFM-H是为半导体表面清洁和蚀刻的一台理想的仪器(例如Si、GaAs、Ge或者InP)使用原子氢，表面钝化的，薄膜成长和其他相似的应用的改善的。 EFM-H以裂化的效率近100%，光滑为特色，平展，并且sharpely被定义的斑点外形、低背景压力和惊奇地低功率消耗量展示EFM-H的卓著的表现。 氢原子的典型的动能是大约250兆伏特，并且离子和激动的分子没有被生产。 它是不仅设计好，而且其中一个最佳的被描绘的来源在市场上。