离子束蒸发器 EFM 3

实验室

蒸发面积Ø 5 - 20 mm 涨潮显示器 联合快门 后方装货evaporant SPM LT包裹的EFM 3 VT的SPM和 焦点产品 EFM 3为薄膜成长和分子束外延设计。 次级单层和多层系统可以导致与变化的挥发率由1/10单层每对1000单层的分钟每秒。 水冷法在蒸发时保证低背景压力(典型地在10-10 mbar范围) -和因而允许超纯净的影片成长。 精确地被定义的evaporant射线允许高度在样品的一致的证言。 证言区域容易地取决于三不同可兑换的出口开口选择和距离从来源到样品。 evaporant射线的部分被电离。 当这些离子击中基体时，他们在基体表面也许创造瑕疵和放置能量。 要避免此EFM 3也许随意地装备排斥离子回到EFM的离子遏抑器。