信息
CCP 纳米 2 是一款双主轴抛光机,专为更高的吞吐量而设计。 抛光机将最佳实践技术与最小的占地面积以最低的投资成本结合在一起。
CCP nano 2 配备了 2 个工具主轴以及 2 个工件主轴和抛光,即使是最强度弯曲的镜片,也可高达 18dpt,具有优质的品质。 智能轴配置和施耐德独特的宏观抛光技术使中共纳米 2 成为真正的赢家。
简单易用的触摸面板通过智能工艺控制数控机床,实现了最高的易用性。 坚固耐用的不锈钢工作室符合人体工程学,易于清洁。
性能大但价格小 — 初创企业和专用镜头制作的绝佳选择。
优点
最紧凑的自由式抛光机
优质表面质量适用于所有镜头设计
低投资
最高曲线范围可达 18 dpt
宏基于工艺易于操作
“轻松点击” 一次性工具
完全 CNC 控制的
技术数据
镜头直径:最高
可达 92 mm夹紧系统:
块-43 mm
镜头材质:
CR39, 高指数, 聚碳酸酯, Trivex®
曲线范围
: 凹:0-14 屈光
扩展版本:0-18 屈光器
功耗:
4 kVA 平均.
空气要求:
最小 6 巴(87 psi)的
机器重量:
约 415 公斤(915 磅)
尺寸(宽 x 深 x 高):
约 900 x 1120 x 1030 毫米(35 x 44 x 41 英寸)
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