真空蚀刻构成了新蚀刻选项的关键组成部分。为了最大限度地减少水坑效应,在喷嘴管之间安装了吸枪,吸起用过的蚀刻介质并将其引入模块槽。强大的真空鼓风机产生持续的真空。与水喷射泵不同的是,无论高度可调的吸枪是吸入用过的蚀刻介质还是泄漏空气,真空都不会崩溃。其结果是绝对均匀的蚀刻率和更少的化学消耗。
喷嘴配置
通过优化的喷嘴配置,SCHMID系统提供了最大的灵活性,因为它能够适应任何需要蚀刻的设计并完善蚀刻工艺。喷嘴的压力分布均匀(最高4巴的喷射压力),不仅可以改善蚀刻效果,还可以提高蚀刻速度。因此,随后的间歇性蚀刻的过程时间
后续的间歇性蚀刻的过程时间被缩短。
优化的运输系统
在标准化的蚀刻模块中,运输盘辊的优化放置代表了另一个新的蚀刻选项。除了真空蚀刻外,运输盘辊的改进设计和放置也导致了工艺化学的排水行为的改善,从而明显减少了水坑效应。
用L/S 6对特别精细的结构进行CuCl2蚀刻
均匀的差分蚀刻:去铜40μm,StDev 1.6
蚀刻速度提高到20%。
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