火焰加热器 5500 series

低成本的薄膜在线沉积 SCHMID APCVD 系统为介质膜沉积提供了最低成本的替代方案。 在滚子运输系统中，只有基板在加热过程中被加热，因此大大降低了电力和冷却要求。 多个喷射器头可在单个 APCVD 系统中串联使用。 三层分级、节电绝缘进一步减少了能源费用。 在线系统有两种配置：带输送或滚筒输送。 每种传输方法都有其优点。 经 过生产验证的 SCHMID APCVD 系统包括多个串联喷射器头，以最大限度地提高工艺吞吐量、均匀性和灵活性，同时最大限度地降低成本。 世界一流的人机界面允许客户在用户友好的触摸屏环境中轻松监控和控制所有过程参数。 注重维护的设计允许化学注射器和排气管道在系统上就位时进行清洁，并且不会出现严重的过程中断。 模块化学蒸汽喷射器头组件允许快速轻松地安装和从涂层室拆除。 所有喷射器头部件均采用耐用的精密加工结构，确保即使在长时间使用之后也能准确地输送化学品。 SCHMID 的热系统以过程稳定性而闻名，APCVD 系统继续了这一传统。 稳定、无与伦比的温度均匀性控制可确保一致的过程结果。 此外，精密的工艺排气和前体流量控制可确保一致的薄膜结果。