在线涂层加工线 PAR5500A

板式物理镀膜设备用于镀着透明导电薄膜于衬底(硅片、玻璃片、柔性基板)。 • 磁控溅射沉积。 • 反应式等离子体沉积。 • PVD具有多阶阴极，可以制备种子层与多种折射率的叠层TCO。 • RPD具有无高能离子轰击衬底特点，能制备高少子迁移率的TCO。