ALD镀膜机 PD-520 series

薄膜

AlO+SiN薄膜沉积。 • 原子层沉积工艺特性，成膜均匀性好。 • 同机台或同管完成多层膜沉积，减少工艺环节，有效提升良率、降低碎片率。 • 自主研发液态源前驱体蒸气输送与前驱体快速切换技术。 • 适应不同前驱体、不同材料钝化层沉积，工艺拓展空间大。