晶圆抛光机 SC-CSZJ9600E-15F

槽式碱抛光清洗设备 用于扩散后的硅片抛光刻蚀、清洗处理，以及搭配双面电池背面制绒、清洗处理。 预清洗→抛光→后清洗或O3清洗→酸洗→预脱水→烘干（供参考）。 • 产能：400片/批，8000片/小时。 • 兼容背面刻蚀抛光及单晶背面制绒工艺。 • 支持多种添加剂技术。 • 支持最薄120um硅片。 • 洁净区域干燥，自洁净系统。 • 快速换液，在线换液。 • 支持MES、RFID及选配在线称重功能。