荧光光谱仪 TXRF 3760

全反射X荧光工艺流程紧凑型

TXRF 3760 TXRF分析在所有很好的过程中可能测量污秽，包括清洁、litho，铭刻，变成灰烬，影片等等。TXRF 3760可能通过与一个单一目标，3射线X-射线系统和一个液体氮气自由的探测器系统的U测量从Na的元素。 TXRF 3760包括Rigaku的给予专利的XYθ样品阶段系统、真空薄酥饼机器人转换系统和新的用户友好的窗口软件。所有这些造成更高的生产量，高精确度和精确度和容易的常规工作。 任意广泛TXRF软件使映射在薄酥饼表面的污染物发行辨认“可以自动地被重新测量在更高的精度的热点”。 任意ZEE-TXRF能力克服原始的TXRF设计历史15 mm边缘排除，使测量用零的边缘排除做。 特点 操作方便和迅速分析结果 接受200 mm和更小的薄酥饼 紧缩设计，脚印 威力强大的转动阳极来源 大范围分析元素(Na~U) 轻元素敏感性(为Na、Mg和Al) 露出Si的应用和对非Si基体 进口测量从瑕疵为继续采取的行动分析的检查工具协调