化学加工线 InEtchSide 4

湿式用于太阳能电池

RENA InEtchSide 自动化处理设备设计用于单面去除二氧化硅层与掺杂玻璃（例如 PSG 或 BSG）。这可用在设计高效电池概念中，例如使用氢氟酸 (HF) 的单面氧化刻蚀。其基于 RENA NIAK 链式平台。 特点和优势 采用 5 道链式工艺的全自动湿法化学单面刻蚀 单面去除二氧化硅 (SiO2)、掺杂玻璃 (PSG/BSG) 使用 HF 进行单面处理（可选择添加化学品，例如 H2SO4 或 BHF） 集成冲洗与干燥晶圆 产能高达 5000 片/小时 可相容 M0、M1、M2 与 M4 硅片尺寸 借助 Bleed + Feed（分供）功能延长蚀槽寿命 精确的计量系统，实现稳定的槽液组成 使用无 O 型环辊设计 破损率业界最低 基于 RENA NIAK 链式处理平台 运行时间长 易于维护 选项： MES 接口 (SECS/GEM) 用于化学品供应的介质柜 针对化学品排出/废水的废物泵出站 工艺控制传感器（例如 pH 值、电导率）