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晶圆清洁系统 水自动半导体工业
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产品规格型号
- 技术
- 水
- 运行模式
- 自动
- 应用
- 半导体工业, 晶圆
产品介绍
洁净晶圆是优良半导体制品之基础。这款全自动 RENA 最终清洁系统为晶圆制备最后步骤提供高品质表面。成熟工艺与先进排程使其成为高要求、大处理量半导体晶圆生产的完美解决方案。
特点与优势
表面洁净度出众，晶圆不超过 300 mm
全自动 LMC 载玻片处理或无载体
借助 RENA Marangoni 干燥机完善修整
标准 SEMI 界面，便于晶圆厂集成
