*mydirectindustry

晶圆清洁系统
水自动半导体工业

晶圆清洁系统 - RENA Technologies GmbH - 水 / 自动 / 半导体工业

晶圆清洁系统 - RENA Technologies GmbH - 水 / 自动 / 半导体工业

晶圆清洁系统 - RENA Technologies GmbH - 水 / 自动 / 半导体工业 - 图像 - 2

晶圆清洁系统 - RENA Technologies GmbH - 水 / 自动 / 半导体工业 - 图像 - 3

晶圆清洁系统 - RENA Technologies GmbH - 水 / 自动 / 半导体工业 - 图像 - 4

晶圆清洁系统 - RENA Technologies GmbH - 水 / 自动 / 半导体工业 - 图像 - 5

晶圆清洁系统 - RENA Technologies GmbH - 水 / 自动 / 半导体工业 - 图像 - 6

晶圆清洁系统 - RENA Technologies GmbH - 水 / 自动 / 半导体工业 - 图像 - 7

添加到我的收藏夹

添加到产品对比表

产品规格型号

技术: 水
运行模式: 自动
应用: 半导体工业, 晶圆

产品介绍

洁净晶圆是优良半导体制品之基础。这款全自动 RENA 最终清洁系统为晶圆制备最后步骤提供高品质表面。成熟工艺与先进排程使其成为高要求、大处理量半导体晶圆生产的完美解决方案。特点与优势表面洁净度出众，晶圆不超过 300 mm 全自动 LMC 载玻片处理或无载体借助 RENA Marangoni 干燥机完善修整标准 SEMI 界面，便于晶圆厂集成

相关搜索

* 显示价格为参考价，此价格不含税、不含运费、不含关税，也不包含因安装或投入使用所产生的其他额外费用。参考价格可能因国家、原材料价格和汇率的不同而产生变化。

品牌列表