轴向循环式蓄水池 GUIDED WAVE™

工艺流程Teflon®材质

我们的 GUIDED WAVE™ Teflon® 轴向工艺流程样品池专为腐蚀性极强或不能容忍金属污染的样品流而开发，在这些样品流中，即使是痕量金属杂质也会导致严重的工艺问题。这种长路径非金属流动池的路径长度为 25 至 100 毫米，可以应对这些挑战。GUIDED WAVE 特氟隆轴向工艺流程样品池专为高腐蚀性工艺和/或痕量金属杂质敏感性而设计。 由于没有金属部件与液流接触，因此这种设计非常适合那些即使是十亿分之一的金属污染也会造成严重问题的工艺，例如在氢氟晶圆厂的蚀刻和清洗步骤中。特氟隆轴流式样品池在含有强酸、强碱、过氧化物或卤代化合物的极强腐蚀性液流中也表现出色。 非腐蚀性 无金属 非常适合半导体工艺/应用 与大多数基于光纤的光谱仪器兼容 为什么选择 GUIDED WAVE 特氟龙轴向工艺流程池？ 在设计一个成功的在线分析仪系统时，最关键的决定可能就是选择样品接口。虽然插入式探头通常可以降低安装成本，但有时出于安全、维修和/或样品调节的要求，有必要集成采样回路或滑流。在这种情况下，流动池是首选的光学接口设备。当路径长度超过 20 毫米且需要小流量时，就需要使用特氟隆轴向流动池。它是一种方便、紧凑、坚固的采样接口，易于安装。