离子源 Anode ion source

阳极离子源(棒状离子源) 无灯丝、电网和中和网，可长期稳定运行和生产，无需维护。平均故障间隔时间非常高，维护成本非常低。涂层环境温度变化小，特别有利于温度敏感基材的涂层。工作压力和能量调节范围广。结合基架的空间要求和安装方式，可实现定制大面积的电离源。 1.非金属基材清洗：清洗基材表面污染物（氧化物、碳氢化合物等），增加膜基的结合力，减少基材缺陷，提高基材的表面能量等。 2.提高气体电离率：在磁控溅射过程中，将工作气体电离为离子辅助沉积，同时提高薄膜颗粒在表面的迁移和扩散能力，有利于形成致密的薄膜结构。 3.沉积膜。直接沉积DLC和光学膜、氧化物、氮化物等。