PVD镀膜机 Pi411 PLUS

凭借其模块化设计和广泛的可用技术范围，Pi411 PLUS是世界上最灵活的PVD涂层设备。其基本配置为在门内安装三个旋转阴极的ARC电弧单元，可以在现场做模块化升级使用电弧或溅射中心阴极，也可以进行PECVD和OXI的工艺升级。该涂层设备的独特之处还在于LACS®混镀技术, 该技术允许同时使用电弧和溅射工艺过程来沉积涂层。 基于旋转阴极的多种配置选项和高度灵活性，使您能够开发出高性能的定制PVD涂层。因此，对于那些不想在技术上做出任何妥协，并看重最大灵活性和性能的客户来说，这种涂层装置是理想的选择。 技术 PLATIT Pi411 PLUS PVD涂层设备为您提供多种技术选择： ECO 基本配置为门上安装3 支LARC®(侧向旋转用于电弧阴极)，用于电弧涂层 PECVD (DLC2): 用于a-C:H:Si涂层: TURBO ECO 配置+ CERC®(中心旋转阴极)，电弧涂层技术，提高生产率和实现最复杂的涂层 OXI 用于白刚玉结构的氧化物PVD涂层 SCIL® 来自中心阴极的高性能溅射涂层 Hybrid LACS® 使用门上的LARC®和中心的SCIL®阴极, 同时进行电弧和溅射过程 运用到的刻蚀技术 几种蚀刻技术都可在PLATIT Pi411 PLUS涂层设备使用，各具优点： LGD® (侧向辉光放电) Ar 辉光放电的等离子体刻蚀 金属离子刻蚀 (Ti, Cr) 装载和运行周期 最大涂层区域：ø 540 x H 500 mm 获得指定涂层厚度的最大涂层高度：414 mm 最大载重：200 kg 最高4-5 炉/天