PVD镀膜机 PL1011 G4

PLATIT的PL1011 G4发展至今已经是第四代稳健的PVD涂层设备。如果您重视工艺可靠性和高质量的PVD涂层，同时力求降低单支刀具的涂层成本，它可以提供完美的解决方案。 新设计在几个方面都有巨大的飞跃。更简单的设计使维护更容易，新的技术特征，如等离子体氮化和双脉冲选项，改善了涂层性能和工艺，适用于广泛的应用。 PL1011 G4是每个大容量涂层中心的生产主力，并将最大的生产可用性与用户友好的应用和维护理念相结合。它有四支平面阴极，采用最先进的电弧涂层技术，可以沉积所有PLATIT标准涂层品质优良重复性高。 技术 4支平面阴极，运用电弧技术沉积涂层 双脉冲功能 等离子体氮化功能 运用到的刻蚀技术 几种蚀刻技术都可在PLATIT PL1011 G4涂层设备使用，各具优点： LGD® (侧向辉光放电) Ar 辉光放电的等离子体刻蚀 金属离子刻蚀 (Ti, Cr) 装载和运行周期 最大涂层区域：ø 715 x H 805 mm 获得指定涂层厚度的最大涂层高度：711 mm 最大载重：750 kg (按要求增加载重) 最高3-4炉/天 模块化转车系统 1-12轴转车 软件 PLATIT的智能系统 (PC和PLC系统) 使用和维护简单 现代化的用户界面，触摸屏菜单导航 实时流程可视化，包括数据记录和数据管理 手动和自动的过程控制 远程诊断和维护 新开发的工艺编辑器