电解等离子体抛光
工艺近来电解等离子体抛光工艺已在工业上使用, 目前尚不为人知. 以下内容应解释等离子抛光的过程和由此产生的好处。 有关更详细的说明,请按照每个部分结尾的链接。
过程
阳极化金属工件被放置在电解槽中,用于等离子抛光工艺。 电解质由约 98 % 的水和 2-3 % 盐的溶液组成。 由此产生的气体,将工件浸湿到要抛光的过程中,并导致等离子体发育。 这种等离子体涂层工件,降低粗糙度,并去除有机和无机污染物,以最小的质量损失。 根据材料规格,典型的材料去除率为每分钟 2-8 µm。 部件的几何形状几乎保持不变。
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