在洁净室环境下,APA 302 是用于先进芯片制造的独特在线监测工具。这台革新性设备可以测量 FOUP 和周围环境中的空气分子污染物(简称 AMC)。该测量实时发生,在 ppbv 范围内具有很高的灵敏度。
有效的污染监测
水分和空气分子污染物 (AMC),例如,氟化氢 (HF),于等待时间内,在 FOUP 槽对槽的空间里被释放出来。而这些元素会在图样晶圆上生成晶体生长,从而导致产量的损失和性能的退化。普发真空的 APA 302 通过 FOUP 过滤器来对 AMC 进行采样。在 ppb 的范围内,通过离子迁移光谱仪、火焰离子化检测、荧光紫外线或光腔衰荡光谱技术,测量在 2 分钟内发生,具有高灵敏度。而当负载端口上没有 FOUP 时,APA 302 会监控周围的洁净室环境。
FOUP 环境的可靠分析
为了保证性能,SEMI S2/S8 兼容的 APA 302 配备了自动校准功能,它会在定期的时间间隔内被激活。对于在 APA 中对 AMC 的监控,可在有晶圆或无晶圆的 POD 中执行。FOUP 可以手动传送,也可通过 2 个负载端口上的悬挂式起重运输 (OHT) 来传送。因此,可优化各工艺步骤间的等待时间,污染的增加量能立刻被察觉到,且产量增加。