Iris系列工具,包括Iris C1、T1和R1型号,能够在大批量制造的广泛应用中实现过程控制,具有出色的性能和拥有成本。
产品概述
Iris系列的目标是为我们的客户提供最佳的拥有成本,为半导体制造中的HVM应用提供专用的特定光学配置。
Iris C1系统结合了Atlas®系列专有的光谱椭圆仪解决方案和Onto Innovation行业领先的AI-Diffract™ OCD分析软件,实现了对每个关键半导体工艺步骤的高精度控制。该系统集成了一个双臂机器人,高精度平台和高速聚焦系统。该系统还具有先进的模式识别功能,提高了厚度的可重复性和产量。N2000™软件界面和先进的自动化符合SEMI和其他组织采用的标准。Iris系统和AI-Diffract解决方案提供了跨越蚀刻、清洁、沉积、CMP和薄膜的复杂结构轮廓的洞察力。
Iris T1是一个光谱椭圆仪系统,为整个工厂的应用提供准确、可重复的单层和多层介质薄膜的在线厚度和光学常数测量。Iris T1系统建立在经过现场验证的Atlas平台上,利用了光学和算法方面的最新进展,使其在性能和拥有成本方面成为同类产品中最好的。符合SEMI/CE标准的N2000™软件接口使Iris系列工具之间可以共享配方。
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