Atlas薄膜和OCD系列是领先的FinFET、Gate-all-around(GAA)FET、3D NAND和先进DRAM器件制造的计量工具。
新的Atlas V计量系统被设计用来测量几个关键步骤,其中包括CD-SEM和其他技术看不到的埋藏特征。通过对光学系统、机械子系统和软件算法的显著改进,Atlas V系统可以精确测量器件参数的非常细微的变化,并为工程师揭示薄弱的工艺角落,以提高他们在工厂的工艺稳健性。Atlas V计量学的敏感性使这些关键尺寸能够得到高精度和高灵敏度的测量,扩展了几代器件的光学解决方案的能力,并消除了对其他较慢的工艺控制技术的需求。
Atlas V技术实现了客户开发GAA/3D NAND/DRAM所需的性能,比这些结构的X射线解决方案快100多倍。选择Onto Innovation的客户已经验证了这种新的OCD技术,并看到了曾经被认为超出光学技术极限的速度和分辨率。
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