由行业领先的光学和机器学习解决方案提供支持的综合计量平台,为CMP、沉积、蚀刻和平板印刷应用结合了高灵敏度和高产量。
产品概述
IMPULSE V系统
随着晶圆到晶圆和晶圆内的均匀性公差越来越严格,集成计量系统在各种半导体加工步骤中得到了应用。基于已证实的高分辨率光学技术,IMPULSE V系统在CMP过程中为薄膜残留物测量提供了更高的灵敏度。IMPULSE平台拥有业界最可靠的硬件,具有一流的可靠性和生产力指标。下一代IMPULSE V系统以更高的产量扩展了这种可靠性,与更高的采样、片内/片上和晶圆边缘测量的需求保持同步。先进的光学系统和专门设计的测量室大大改善了信噪比(SNR),实现了比上一代集成计量系统的精度提高2倍以上。板载机器学习使用额外的信噪比来完成这个强大的软件包,实现了更快的解决问题的时间,并缩小了现有工具集以前无法测量的层的差距。
IMPULSE V系统和Atlas V系统为半导体工厂提供了全面的薄膜和光学关键尺寸测量解决方案,通过无缝交换配方和数据实现信息反馈,提高产量。
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