光发射光谱仪 VeOS

火花光发射实验室用于分析

OBLF 的 VEO 火花发射光谱仪以半导体探测器为基础，采用尖端探测器技术，能够对所有常见的金属材料进行多功能、灵活和快速的分析。 分析光谱还包括对氮或低碳等短波长元素的精确分析。 优势完整且灵活地包含所有分析任务，可扩展的特点最新的、专门开发的检测器技术在检测极限、精度、稳定性方面具有出色的性能，适用于重型环境中的稳健设计最全面的多矩阵应用选项 对分析元素的选择没有任何限制。精确检测 N 和碳痕量 (ULC) OBF 的 VEO 是首款采用半导体检测系统的火花光谱仪，其分析性能包括实验室所需的光谱分辨率 光谱仪 — 与已建立的基于光度增分器的系统一样好。 这种全新的光探测器技术专为火花发射光谱技术而开发，保证在 130 至 800 nm 的整个所需波长范围内获得优异的结果。 光敏探测器的设计特点是光敏度比传统系统中的探测器高 100 倍，因此经过专门调整，以适应发射光谱学的要求。