自动光刻机 6000

6000型全自动正面或背面掩模对准器用于生产 用于。半导体、MEMS、传感器、微流体、物联网、包装 凭借在半导体行业超过40年的制造经验，OAI以一种新的精英级生产型光刻设备来应对动态市场日益增长的挑战。 6000系列建立在古老的OAI模块化平台上，它的正面或背面对准都是全自动的，具有亚微米级的分辨率，其性能是任何价格都无法比拟的。 该对准器拥有先进的光束光学技术，均匀性优于±3%，在第一掩模模式下的产量为每小时180片，因此产量更高。6000系列可以处理各种各样的晶圆，包括厚的和粘合的基片（高达7000微米）、翘曲的晶圆（高达7毫米-10毫米）、薄的基片（低至100微米厚）和厚的光阻。 6000系列具有极佳的工艺重复性，是所有生产环境的完美解决方案。可以选择正面对位或可选的背面对位，后者使用基于康耐视的OAI定制的图案识别软件。对于整个光刻过程，6000系列可以与集群工具无缝集成。OAI新的生产型光罩对准器是一个整体。 高度优化的YIELDS 200 WPH在第一掩模模式下 先进的光束光学技术，均匀度优于±3%。 广泛的WAFER处理，包括厚的和粘结的基材和翘曲的基材 楔形效应矫治 极好的工艺重复性 亚微米级的分辨率 远程诊断