晶圆光刻机 200IR

OAI 200IR型掩膜对准器是一个台式系统，需要最小的洁净室空间。它是研发或有限规模的试验性生产的一个具有成本效益的选择。利用一个创新的空气轴承/真空吸盘调平系统，基片被快速和轻柔地调平，以便在接触曝光期间实现平行光罩对准和整个晶圆的均匀接触。200IR型掩模对准器能够达到一微米的分辨率和对准精度。它有一个对准模块，该模块具有光罩插入套和快速更换晶圆卡盘的功能，可以使用各种基底和光罩，而不需要用工具进行重新配置。对准模块包含了X、Y和Z轴的千分尺。 该掩模对准器具有可靠的OAI光源，使用功率从200瓦到2000瓦的灯管提供近紫外或深紫外的准直光线。双传感器、光学反馈回路与恒定强度控制器相连，使曝光强度控制在所需强度的±2%以内。可以快速和容易地改变紫外光的波长。200IR型掩膜对准仪是一个灵活、经济的解决方案，适用于MEMS、微流控和NIL的任何入门级掩膜对准和紫外线曝光应用。