激光平版印刷系统 Quantum X

Nanoscribe的Quantum X是全球首创双光子灰度无掩模光刻系统，适用于制造微光学衍射以及折射元件。 体验全新Quantum X 全新的Nanoscribe Quantum X系统适用于工业生产中所需手板和模具的定制化精细加工。该无掩模光刻系统颠覆了自由形状的微透镜、微透镜阵列和多级衍射光学元件的传统制作工艺。 全球首个双光子灰度光刻(2GL®)系统将具有卓越性能的灰度光刻与Nanoscribe精确灵动的双光子聚合技术结合起来。 Quantum X提供了完全的设计自由度、高速的打印效率、以及增材制造复杂结构超光滑表面所需的高精度。快速、准确的增材制造工艺极大地缩短了设计迭代周期，实现了低成本的微纳加工。 凭借着独有的产品优势Nanoscribe 新发布的Quantum X在2019慕尼黑光博会展（LASER World of Photonics 2019）荣获创新奖。 双光子灰度光刻技术 这项突破性的技术将微纳增材制造和超高速体素大小调节结合在一起：双光子灰度光刻(2GL)是一种前所未有的具有超高速、超精确的可以满足自由形态的微加工技术，同时又不影响速度和精度。 Quantum X通过实时调制激光功率的技术在扫描平面上控制体素的大小。通过这种方式，具有复杂几何形状的结构可以被制造出来，同一物体中跨尺度的细节能够实现一步打印。无论是离散的，还是连续的复杂结构均可以在最大可达6英寸的晶圆片基板上精细打印，而不需要额外的光刻步骤或掩模制造。 Quantum X向导将指导您创建打印作业。原生的加工软件可接受高达32位位深的灰度图像，可使用2GL技术直接进行打印。二维和2.5维的衍射和折射微光学具有光学质量表面和高形状精度。