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磁控溅射镀膜机 UNIvap热蒸发离子束辅助薄膜
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产品规格型号
- 所用技术
- 磁控溅射, 热蒸发, 离子束辅助
- 镀层类型
- 薄膜
- 其他特性
- 真空
- 应用
- 微电子行业, 光伏应用
产品介绍
- 独立的系统
- 紧凑和具有成本效益的解决方案
- 简单的配置设计
- 可进行共沉积
- 均匀性可达+/-3 %（通过特定的几何设计，可达+/1 %）。
- 两种标准尺寸。UNIvap 4S和UNIvap 5S
- 最多可以有8个沉积源
- 基片尺寸可达100x100毫米或直径为100毫米（4英寸）。UNIvap 4S的基片尺寸可达100毫米（4英寸）。
- 基片尺寸可达150x150毫米或直径。用于UNIvap 5S的150毫米（6英寸）基板
- OLEDs/有机电子
- OPVs
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