硬塑料抛光机 CP series

片材末道自动

为了实现这一目标，罗技开发了先进的化学抛光系统，作为多种材料的抛光工艺。 CP3000和CP4000系统实现了出色的表面抛光，对晶格结构的表面和次表面的损害最小。 CP3000系统是一个紧凑的系统，设计成适合在你现有的排烟柜内。CP3000系统可以一次处理多达3个112毫米的样品。 CP4000是一个集成的排烟系统，为腐蚀性的化学抛光操作提供了一个安全而经济的解决方案。这个系统可以在207毫米的支撑基底上处理1个200毫米（8英寸）的晶片，在112毫米的支撑基底上处理3个100毫米（4英寸）的样品，在160毫米的支撑基底上处理3个150毫米（6英寸）的样品，或者在83毫米的支撑基底上一次处理9个75毫米（3英寸）的样品。(多个更小的样品和独特的样品尺寸也是可能的) 这些化学抛光系统对抛光过程中使用的化学品有抵抗力，例如使用溴化甲醇、过氧化苯甲酰或酸蚀剂。 功能摘要包括。 由聚丙烯、PVDF和环氧树脂喷涂的聚氨酯制成的耐腐蚀结构。 适应性强的甲板安排，以适应不同的样品尺寸和几何形状。 对安全方面和操作者的便利性给予了细致的关注。 适用于大多数类型的腐蚀性蚀刻剂（例如，溴化氢甲醇）。 主要特点 最小的表面下损伤 可以抛光各种尺寸的晶圆，在CP4000上可以抛光到200毫米（8英寸）。 坚固、耐腐蚀的结构 对半导体晶圆和电光晶体进行精细蚀刻抛光 有两个版本可供选择。CP3000和CP4000