ch公司的WG2抛光系统,与现已停产的罗技PM5精密抛光机兼容,能够以非常高的标准生产所需的成品样品。这可以是高反射率、低浮雕、超平坦的表面或最小的边缘滚落。
系统特点。
该系统具有高度的通用性,提供广泛的设施,包括可变的平板和转盘速度和旋转方向。 样品可以单独或分批进行抛光,使用各种样品架。 是岩石抛光的理想选择。
坚固的WG2抛光系统是用抗腐蚀材料制造的,可用于更具侵蚀性的工艺路线。强大的低压直流电机提供足够的扭矩,使满载的转盘以高达25 rpm的速度旋转。
样品由六个驱动杆固定,使每个试样能够独立旋转。
每个驱动杆上可以放置高达1.35公斤的增量载荷,以协助抛光过程。双重负载杆为大面积试样(即76 x 51mm)提供了在三个位置增加负载的设施。
请注意,WG2抛光系统仅适用于现有兼容PM5系统的客户。如果你没有罗技的研磨抛光系统,但对地质薄片或超薄片的抛光感兴趣,请看PM6精密研磨抛光系统和WG6抛光系统的更多信息。
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主要特点
与罗技PM5精密抛光系统兼容
高质量的表面处理
高容量输出
自动印版平整度控制
运行成本低
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