晶圆旋转涂布机 VTC-200P
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产品介绍
1、引言VTC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。2、主要技术指标电源：AC220V50Hz功率：350W真空度:MAX-0.08MPa转速：500rpm-6000rpm时间：1s-60s尺寸：Ø250mm×290mm重量：25kg
1、引言
VTC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。
2、主要技术指标
电源：AC220V 50Hz
功率：350W
真空度:MAX-0.08MPa
转速：500rpm-6000rpm
时间：1s-60s
尺寸：Ø250mm×290mm
重量：25kg
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