磁电管溅镀机 VTC-600-2HD DC/RF镀金属
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产品规格型号
- 技术参数
- 磁电管
- 应用
- 镀金属
产品介绍
1、引言VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是最新研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。配置两个靶枪，一个为配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个为配套直流电源用于导电类材料的溅射镀膜;
电源：220V 50Hz
最大功率：<560W（不含真空泵）
极限真空度：
