橱柜式炉 VF-5300

热处理退火氧化

这种带有内置储存器的立式炉在超高温下大批量加工8英寸晶圆。该炉是一个半导体热处理系统，可以进行氧化、扩散、LPCVD、活化退火和其他各种热处理。 特点 大批量，最多可批量处理150片晶圆 最大20个盒式库存 使用LGO加热器进行从低温到中高温范围的出色温度控制 通过使用单片/五片晶圆处理机器人进行高速晶圆传输 配备了便于操作的高性能控制系统 该型号是一种连续的大批量、大规模生产型垂直扩散炉，配备了一个最多可以容纳150片（8英寸）或20个盒的储存器。由于采用了LGO加热器，该炉在从低温到超高温的范围内表现出卓越的温度特性。该炉可用于从低温退火、氮化物（Si3N4）、多晶硅（poly Si）和其他材料LPCVD到氧化和扩散的广泛加工。二硅化钼（MoSi2）加热器也可用于支持SiC功率器件栅极氧化氮化和其他超高温加工。