光学测量系统 LMS IPRO series

晶圆用用于集成电路用于控制

光罩图案定位量测系统 LMS IPRO7光罩定位测量系统旨在为7nm设计节点使用的EUV和光学光罩提供准确快速的图案定位性能的验证。通过对光罩图案位置误差的全面表征,LMS IPRO7可以在高级设计节点光罩的开发和生产期过程中收集数据并将其用于电子束光罩写入仪的校正以及光罩质量控制。采用 KLA专利的模型量测算法,LMS IPRO7可以高精度地测量目标和多个器件上图案器件上多个特征图案定位误差， 为IC制造厂提供全面表征信息，减少由光罩引起的的器件叠对误差。 应用 光罩认证，出厂光罩质量检查，光罩写入仪认证和监控，光罩工艺监控，晶圆图案化控制 相关产品 LMS IPRO6: 用于10nm设计节点的光罩量测系统，能够测量标准定位标记和器件上图形特征。 LMS IPRO4: 用于32nm / 28nm设计节点的光罩测量系统。 LMS IPRO4在行业内独具灵活的4寸至8寸的光罩尺寸处理能力。 有关全新和翻新系统的更多信息，请点击“联系我们”。