针对光罩厂应用的光罩缺陷检测系统
Teron™640e光罩检测产品系列通过检测关键图案和颗粒缺陷,在光罩厂中推动了先进的EUV和193nm图案光罩技术的开发和认证。 这些检测系统采用芯片与数据库或芯片与芯片的模式,可以处理各种堆叠材料和复杂的OPC结构,这是最新7nm和5nm器件节点的特色。 Teron 640e将多种光学和图像处理的配套功能升级,可以满足缺陷捕获率要求,并加快光罩生产周期。 Teron 640e产品系列还能满足生产EUV光罩所需的严格的洁净度标准。
应用
光罩认证,光罩工艺控制,光罩工艺设备监控,出厂光罩质量检查
相关产品
Teron 640: 用于10nm 及以下节点的光学和EUV光罩检测的业界生产设备标准。
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