温度监控系统 Process Probe™ 1530/1535

测量实时

实时晶圆温度监测系统 Process Probe™1530和1535仪表晶圆能够监测包括冷壁式、RTP、溅射、CVD、等离子剥离器和外延反应器的各种工艺的原位温度。 Process Probe 1530和1535在工艺循环的每个关键步骤中能够对晶圆温度进行直接和实时测量。工艺工程师可利用这些全面的温度数据对工艺条件进行表征和微调，并推动工艺设备性能的改进以及晶圆质量和良率的提升。 应用 工艺开发，工艺认证，工艺设备认证，工艺设备匹配 冷壁式薄膜工艺反应室（1530），热壁式薄膜工艺反应室（1535）|0-1100°C