灯光测量系统 UV Wafer

紫外线晶圆用

紫外晶圆实时紫外（UV）光测量系统利用无线传感晶圆技术在薄膜沉积工艺设备内部测量晶圆表面的UV光剂量和强度。紫外晶圆可以在FCVD（可流动）氧化物和低k电介质膜的固化或退火工艺中采集UV灯到达晶圆表面的光强度的时间和空间信息，从而能够实现前所不能的工艺优化和监控。 UV晶圆还可以识别由于灯老化而引起的漂移或者其他强度变化，以及由此引起的薄膜性质不均匀。 通过凸显UV灯子系统内的光学系统问题，紫外晶圆可帮助工程师推动工艺设备的改进，从而实现最佳的固化工艺。 应用 工艺开发，工艺认证，工艺设备认证，工艺设备监控，工艺设备匹配 薄膜沉积，紫外固化，紫外退火