厚度测量系统 SpectraFilm™

光谱分析用于薄膜高精度

薄膜量测系统 SpectraFilm™ F1薄膜测量系统可以为各种薄膜层提供高精度薄膜测量，从而在7nm一下的逻辑和领先内存设计节点上协助实现严格的工艺允许误差。高亮度光源驱动光谱椭偏仪技术，信号足以精确测量带隙并且可以比电子测试提早数周了解电性能。新的FoG™（光栅上的薄膜）算法可以在类似器件的光栅结构上实现薄膜测量，从而进一步提高测量值与器件的相关性。随着产量的提高，SpectraFilm F1能够支持产率提升，并且测量更多与先进设备制造技术相关的薄膜层。 主要应用 带隙监控，工程分析，在线工艺监控，设备监控，工艺设备匹配 相关产品 SpectraFilm LD10: SpectraFilm LD10薄膜量测系统可为16nm及以下的设计节点的各种薄膜层提供可靠的、高精度的薄膜及厚膜厚度、折射率和应力测量。