厚度测量系统 Aleris® series

光谱分析用于薄膜

薄膜量测系统 Aleris® 薄膜量测系统可为32nm节点及以下节点提供可靠的、精确的薄膜厚度、折射率、应力以及成分测量。 利用宽带光谱椭偏仪（BBSE）技术，Aleris薄膜测量系统提供全面的薄膜厚度测量和量测解决方案，帮助晶圆厂对各种薄膜层进行鉴定和监控。 Aleris 8330 Aleris 8330薄膜量测系统是一种低成本的解决方案，用于包括金属间电介质、光阻、底部抗反射涂层、厚氧化物和氮化物以及后段层等非关键薄膜层。 Aleris 8350 Aleris 8350是一种高性能薄膜量测系统，可以满足关键薄膜层对厚度、折射率和应力测量所需的更严格的工艺差异。 Aleris 8350薄膜厚度测量系统针对各种关键薄膜提供先进薄膜开发、表征和工艺控制，其中包括超薄扩散层、超薄栅极氧化物、先进光阻、193nm ARC层、超薄多层 堆叠以及CVD层等。 Aleris 8510 Aleris 8510将Aleris系列的薄膜厚度、成分和应力测量功能扩展到先进的High-k金属栅极（HKMG）和超薄去耦等离子体氮化（DPN）工艺层。 Aleris 8510薄膜厚度测量系统采用增强型150nm宽带光谱椭偏仪技术，针对DPN层和所有HKMG层- 从栅极到多晶硅，包括Hf和N剂量和薄膜厚度测量为工程师提供技术开发和在线监控所需的薄膜量测数据。 应用 工程分析，在线工艺监控，设备监控，工艺设备匹配