光学检查机 CIRCL™ 晶圆用于电子工业宏观缺陷
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产品规格型号
- 所用技术
- 光学
- 应用
- 晶圆
- 领域
- 用于电子工业
- 其他特性
- 宏观缺陷
产品介绍
全表面晶圆缺陷检测、量测和检视集群系统
CIRCL™ 集群设备包含四个模块可以检测所有晶圆表面并同步采集数据，从而实现高产量和高效率的工艺控制。 最新一代的CIRCL5系统模块包括：晶圆正面缺陷检测; 晶圆边缘缺陷检测；轮廓、量测和检查; 晶圆背面缺陷检测和检查; 以及晶圆正面缺陷的光学检查和分类。 DirectedSampling™可以提供数据采集控制，并创新地利用一项测量结果触发集群设备中其他类型的测量。 CIRCL5的模块化配置可以灵活地满足不同工艺控制的需求，节省整个晶圆厂空间，缩短晶圆排队检测时间，并可以通过经济高效的系统升级来保护晶圆厂的资本投资。
应用
工艺监控，出厂质量控制（OQC），设备监控，背面监控，边缘良率监控
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