CellaCrystal PX 44 是为硅和碳化硅晶体生产过程中的光学温度测量而开发的。其校准特别适合晶体生长过程。由于采用了混合信号评估技术,整个测量范围内的分辨率始终保持在小于 0.1 K 的高水平,并且采用了均匀光传感器技术,因此具有极高的长期稳定性,从而满足了对测量精度的高要求。
特点
测量范围 750 至 3,000 °C
PX 44 AF 4:硅晶体生产专用校准装置
PX 44 AF 4:用于碳化硅生产的特殊校准
混合信号评估,计量分辨率高
自热最小,长期稳定性高
可对焦镜头,精确调整测量距离
标准功能:IO-LINK 接口和模拟输出
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