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气相化学反应真空沉积加工

气相化学反应真空沉积加工 - Keihin Ramtech Co.,Ltd.
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产品规格型号

方法
气相化学反应

产品介绍

大面积垂直溅射设备 ・成膜有效范围 300mm×100mm ・设备配置 带有垂直 RAM 阴极的溅射室 ・成膜材料 TCO(ITO等)/金属(Cu等)/金属氧化物(NiO等)/C(DLC)/其他

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