表面处理等离子体光源 BS-80011BPG

表面处理等离子体光源 - BS-80011BPG - Jeol
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产品规格型号

技术参数
用于表面处理

产品介绍

安装在真空室内产生高密度等离子体的等离子体源。利用和真空蒸镀结合的等离子体辅助沉积技术(离子镀),能提高光学薄膜、保护膜、功能膜等的薄膜特性。另外,还可以用作等离子处理如对清洗基板和表面改性也很有效。 产品特点 安装在真空室内产生高密度等离子体的等离子体源。利用和真空蒸镀结合的等离子体辅助沉积技术(离子镀),能提高光学薄膜、保护膜、功能膜等的薄膜特性。另外,还可以用作等离子处理如对清洗基板和表面改性也很有效。 主要特点 * 低电压、大电流、高密度的直流等离子体能高效地电离气体分子及蒸发颗粒。 * 能进行反应沉积,尤其对促进氧化非常有效。 * 真空室的整个空间充满了高密度等离子体,能进行大面积、高速率的镀膜。 * 能加装到现有的真空室上。 成膜效果 * 改进膜密度和膜折射率 * 提高耐环境性 * 降低波长漂移 * 降低膜的吸收率(加速氧化) * 提高薄膜附着力 * 改进表面的平滑度 * 控制薄膜应力

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