安装在真空室内产生高密度等离子体的等离子体源。利用和真空蒸镀结合的等离子体辅助沉积技术(离子镀),能提高光学薄膜、保护膜、功能膜等的薄膜特性。另外,还可以用作等离子处理如对清洗基板和表面改性也很有效。
产品特点
安装在真空室内产生高密度等离子体的等离子体源。利用和真空蒸镀结合的等离子体辅助沉积技术(离子镀),能提高光学薄膜、保护膜、功能膜等的薄膜特性。另外,还可以用作等离子处理如对清洗基板和表面改性也很有效。
主要特点
* 低电压、大电流、高密度的直流等离子体能高效地电离气体分子及蒸发颗粒。
* 能进行反应沉积,尤其对促进氧化非常有效。
* 真空室的整个空间充满了高密度等离子体,能进行大面积、高速率的镀膜。
* 能加装到现有的真空室上。
成膜效果
* 改进膜密度和膜折射率
* 提高耐环境性
* 降低波长漂移
* 降低膜的吸收率(加速氧化)
* 提高薄膜附着力
* 改进表面的平滑度
* 控制薄膜应力