光电子式光谱仪 JPS-9030

X射线工艺流程化学

JPS-9030 配备了全新设计的用户界面，进一步提高了操作性，同时还首次采用了精致、新颖、时尚的外观设计。 功能特点 - 根据应用优化深度剖面 新开发的考夫曼型蚀刻离子源的蚀刻速率从 1 nm/min 到 100 nm/min（SiO2 当量）不等，并可进行多种设置。从要求精度的测量到要求速度的制程，它都能提供适合任何应用的深度剖面。考夫曼型蚀刻离子源安装在试样交换室上，可有效防止测量室受到污染。 - 新开发的软件更加易于使用 SpecSurf 2.0 版现在采用了带状图形用户界面，提供了一个用户友好的环境，所有操作均可通过鼠标完成。利用 JEOL 自带的自动定性分析功能，可以对多个采集点依次进行定性、定量和化学状态分析。 - 超高表面灵敏度 JPS-9030 支持角度分辨 XPS (ARXPS) 和全反射 XPS (TRXPS) 等技术，能够对 1 nm 的顶面进行超高灵敏度分析（标准测量方法为 6 nm 或以上）。 - 丰富的选项 - 单色 X 射线源 - 适用于有机样品的氩气簇离子源 - 红外线加热系统，温度可达 1,000 °C 或更高 - 转移容器，防止样品暴露在大气中