Vertex Multi Sensor 测量离子能量分布作为纵横比从多个位置击中等离子反应器内表面的函数,以分析基板上离子相互作用的均匀性。
此外,还从多个位置测量离子能量、离子通量和偏置电压的均匀性。
离子击中特征底部的角度可通过离子能量分布作为纵横比的函数来确定。纵横比可以在基板上测量,以监测基板的一侧到另一侧的蚀刻轮廓的均匀性。
顶点多传感器测量离子能量分布的均匀性作为纵横比的函数。 提供等离子体内表面上的离子能量均匀性、离子通量均匀性、负离子均匀性和偏置电压。 Vertex Multi Sensor 在工业和研究中的应用越来越多,这些应用对特征特性有兴趣,例如用于较大基材的等离子体蚀刻、离子束和等离子溅射。 Vertex Multi Sensor 可帮助用户确认模型、开发使用等离子体且需要统一工艺、等离子体工具设计、等离子体表征和研究的新工艺和实验。
Vertex 多传感器安装在一个 19 英寸机架安装电子单元、真空馈通以及位于等离子体或光束室内的任何位置的传感器支架。 该位置甚至可以是 RF 或 DC 供电的电极,并且可以使用可更换的按钮探头传感器。 电子设备连接到笔记本电脑或 PC,并使用 Vertex 智能软件套件。
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