亨斯迈生产的低痕量金属级季胺具有一系列结构,可用于半导体配方清洗、蚀刻或剥离应用。亨斯迈的季胺具有低腐蚀率和易于处理的特点;在水溶液和非水溶液中,它们的浓度都比TMAH高。
光敏电阻的显影和剥离
蚀刻和去除
光电池纹理化
化学机械平坦化后的清洗
低微量金属,高纯度
可提供浓度高达45%的产品
可在水溶液和非水溶液中使用
E-GRADE® THEMAH是一种三(羟乙基)甲基氢氧化铵的水溶液。它是一种透明、高pH值的液体,气味温和,热稳定性好。该产品主要用于半导体、显示器和PCB行业的剥离和清洗配方。
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