二硅化钴(CoSi2)具有低电阻率和良好的热稳定性。它目前被广泛用作大规模集成电路中的触点,而且CoSi2具有与Si相似的晶体结构,因此可以在Si衬底/Si结构上形成外延CoSi2,用于研究外延金属硅的界面特性。
分子量:115.104
密度:4.9 g/cm3
颜色:灰色
熔点:1326 °C
沸点:5100ºC
欧洲共同体(EC)编号:234-616-8
二硅化钴(CoSi2)具有低电阻率和良好的热稳定性。它目前被广泛地用作大规模集成电路中的触点,而且CoSi2具有与Si相似的晶体结构,因此可以在Si衬底上形成外延CoSi2/Si结构,用于研究外延金属硅的界面特性。
1.高纯度:最高纯度可达99.99%,XRD检测不含杂质相;
2.分布集中:标准的正常粒径分布,无双峰或多峰现象。
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